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真空溅射生产加工工艺技术-磁控溅射全文专辑|配方|生产工艺
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产品: 真空溅射生产加工工艺技术-磁控溅射全文专辑|配方|生产工艺 
单价: 198.00元/
最小起订量: 1
供货总量: 100
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有效期至: 长期有效
最后更新: 2012-05-24 08:07
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以下技术资料198元/套
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目录如下:
1-SIPO-338741用于真空镀膜设备溅射阴极的靶及其制造方法
2-SIPO-338741 真空溅射系统阴极靶的粘接方法
3-SIPO-338741 太阳能真空管溅射选择性吸收涂层
4-SIPO-338741 高真空多靶磁控溅射方法和装置
5-SIPO-338741 太阳能真空集热管溅射选择性吸收涂层
6-SIPO-338741 太阳能真空管溅射选择性吸收涂层
7-SIPO-338741 真空磁控溅射泡沫金属化机
8-SIPO-338741 真空多元溅射镀膜方法
9-SIPO-338741 用于10-8Pa超高真空圆形平面磁控溅射靶的密封装置
10-SIPO-338741 用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶
11-SIPO-338741 真空镀膜中水动旋转磁场式溅射靶及多弧源
12-SIPO-338741 立式真空溅射镀膜机多靶镀膜室
13-SIPO-338741 真空多区磁控阴极溅射头
14-SIPO-338741 磁控溅射-多弧多功能真空镀膜设备
15-SIPO-338741 多弧—磁控溅射真空离子镀金设备
16-SIPO-338741 真空溅射镀膜机
17-SIPO-338741 一种柱状磁控溅射源蚌形双室真空镀膜机
18-SIPO-338741 超高真空多功能磁控溅射装置
19-SIPO-338741 真空磁控溅射泡沫金属化机
20-SIPO-338741 多节立式开合真空溅射离子镀炉
21-SIPO-338741 软磁铁氧体磁心磁控溅射真空镀银工艺
22-SIPO-338741 用于真空溅射处理机的阴极
23-SIPO-338741 太阳能真空集热管溅射选择性光吸收膜形成方法
24-SIPO-338741 真空多弧溅射五层结构信号极板及方法
25-SIPO-338741 真空溅射制备柔性导电材料的工艺方法
26-SIPO-338741 真空溅射阴极
27-SIPO-338741 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
28-SIPO-338741 电磁波屏蔽织物的真空溅射镀膜和化学镀膜复合制造方法及其产品
29-SIPO-338741 太阳能集热管真空磁控溅射连续镀膜线系统
30-SIPO-338741 磁控溅射真空室H2O内外压差逐级导入装置
31-SIPO-338741 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法
32-SIPO-338741 超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶
33-SIPO-338741 金属带材的磁控溅射真空抛光的方法和设备
34-SIPO-338741 金属带材的磁控溅射真空抛光的方法和设备
35-SIPO-338741 真空溅射系统的阴极
36-SIPO-338741 溅射、沉积分离腔式真空薄膜沉积装置及其工作方法
37-SIPO-338741 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置
38-SIPO-338741 一种用于超高真空的磁控溅射靶以及靶中磁体的制备工艺
39-SIPO-338741 双面溅射真空卷绕连续镀膜设备
40-SIPO-338741 磁控溅射镀膜用真空腔室
41-SIPO-338741 防污染超高真空磁控溅射镀膜装置
42-SIPO-338741 大型多功能真空溅射离子注入机
43-SIPO-338741 一种磁控溅射真空镀膜机的自动升压装置
44-SIPO-338741 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机
45-SIPO-338741 用于真空溅射沉积薄膜的设备
46-SIPO-338741 一种连续卷绕式磁控溅射真空镀膜装置
47-SIPO-338741 一种真空磁控溅射卷绕镀膜装置
48-SIPO-338741 扫描电镜或真空设备内的离子溅射镀膜与刻蚀装置

注意事项:
1、以上均为专利技术原文(原文什么样,我们提供给您的就什么样).专利文献中包含专利发明人,发明时间,技术原理,工艺流程,配方,图纸,以及实现其产品的生产全过程。专利光盘是计算机专用数据光盘,PDF文件格式,在Windows操作系统运行环境下,可以直接打开、阅读、打印,适合有相关行业经验,有志于致富创业的人员。仅提供给大家参考研究之用,所有技术的版权归原作者所有。本店不对其可操作性负责。只是低价让大家了解技术。
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